网站地图 | 联系我们 | English | 中国科学院
站内检索
   
首 页 所况简介 机构设置 新闻中心 科研队伍 科研成果 党 建 创新文化 合作交流 研究生 产业化 图书馆 光子学报 科普园地
现在位置:首页 > 交流 > 学术报告
2009.12.4 e2v 大面阵CCD&CMOS研发近况
  2009-12-01 | 编辑: | 【  【打印】【关闭】  

   e2v航天及科学成像产品介绍,由e2v专家介绍研发近况及未来发展。
  
内容e2v 大面阵CCD&CMOS研发近况
  
主讲人James Endicot
  
Application Engineer, Space and Scientific imaging
  
John Lam林俊雄
  
Imaging Senior Application Engineer, Asia Pacific
  
时间:124星期五上午 0900 – 1100
  
地点:祖同楼一楼南会议室

   欢迎参加

科技处   
2009
121


相关新闻
中国科学院西安光学精密机械研究所 版权所有 Copyright @ 2009 opt.cas.cn All Rights Reserved.
地址:西安市高新区新型工业园信息大道17号(邮编710119) Email:Info@opt.ac.cn     陕ICP备05007611 西安网警备案号XA11238